Exquis T4 Pro 全谱直读光谱仪
技术参数：光学系统光学结构帕邢-龙格 罗兰圆全谱充氩型光学系统 激发台电极分析间隙氩气流量钨材喷射电极4mm激发流量约3.5L/min，待机流量约0.1L/min 激发光源光源类型放电频率放电电流数字光源，高能预燃技术（HEPS）100-1000HZMax400A 数据采集系统探测器其他功能高性能CMOS阵列（4096像素）光室
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产品详情
技术参数：
光学系统 | 光学结构 | 帕邢-龙格 罗兰圆全谱充氩型光学系统 |
电极 分析间隙 氩气流量 | 钨材喷射电极 4mm 激发流量约3.5L/min，待机流量约0.1L/min | |
光源类型 | 数字光源，高能预燃技术（HEPS） 100-1000HZ | |
探测器 其他功能 | 高性能CMOS阵列（4096像素） 光室温度，软件自动控制压力，通讯监测 | |
可检测基体 检测时间 | Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag等 依据样品类型而定，一般20S左右 | |
工作电源 | AC220V 50/60Hz | |
主机尺寸 | 530*660*350mm 约47Kg | |
仪器特点：
光室密封循环充氩技术 | ||
| 采用了先进的光室密封循环充氩技术，有效隔绝外界干扰，确保分析过程在纯净、稳定的环境中进行。 | ||
配备低噪声的4096像素CMOS检测器，实现了对Fe、Al、Cu、Zn、Ni、Mg、Ti、Pb、Sn等金属基体及非金属 元素（N,C,S,P,B,As）的全谱分析。 其卓越的紫外响应灵敏度，无需额外镀膜即可直接分析非金属元素。 | ||
拥有专利的全数字高稳定性激发光源，频率Max可达1000Hz，能够根据不同材质自动匹配较好激发条件，确保 每次分析都能获得Max优结果。 | ||
| 采用全新的整体恒温屏蔽技术，将温度控制精度提升至±0.1℃，确保光学系统在稳定、均匀的温度环境中工作。 | ||
| 创新的智能全覆盖加热及保温技术使得冷机启动时间大幅缩短至30分钟，提高了整体运营效率。 | ||
创新的曲线智能跳转技术使得Exquis T4 Pro能够根据样品的分析值在后台智能选择*佳分析谱线，进一步提高了分析结果的准确性和精度，分析结果自动判断产品牌号。 |
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